没记错的话，国内有生产光刻胶的企业吧，而且光刻胶的工艺并不比光刻机难，其实光刻胶的配方，比如感光树脂、光增感剂都没什么技术难点，其实现在网络上说光刻胶卡脖子也不是很准确，这就和当年说中国不能做圆珠笔钢珠是一样的，中国不是不能做，而是没有必要，所以现在光刻胶虽然是美日垄断市场，但一旦断供，中国的光刻胶产业立即就能顶上，这没有任何难度，而且光刻胶有可替代材料，这个中国也攻克了，所以没有文章里说的那么严重。
1、什么是光刻机(光刻机是干什么用的?光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。生产集成电路的简要步骤：利用模版去除晶圆表面的保护膜。
用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质。其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：模版和晶圆大小一样，模版不动。模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。
2、什么是光刻机工作原理是什么1、光刻机，是现代光学工业之花，是半导体行业中的核心技术。可能有很多人都无法切身理解光刻机的重要地位。光刻机，是制造芯片的机器。要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机、电脑了。2、光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机、用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机。
3、什么是光刻机光刻机（MaskAligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contactaligner，曝光时模板紧贴晶圆；另一种是利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造。
将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路。用纯水洗净残留在晶圆表面的杂质，其中曝光机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：模版和晶圆大小一样，模版不动，模版和集成电路大小一样，模版随曝光机聚焦部分移动。其中模版随曝光机移动的方式，模版相对曝光机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。